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DTXT_TITLE: Neue Nanotechnologie-Methode für die Fertigung von Chip-Komponenten - Molecular Self Assembly (2003) DOC_TYPE: Image ARCHIV: 1000 FIL_ID: 50770928 FIL_ORG: 82796.jpg FIL_EXT: jpg FIL_WIDTH: 1620 FIL_HEIGHT: 1579 FIL_RES: 300 FIL_SIZE: 575341 FIL_COLOR: RGB FIL_ROTATE: FIL_CLIP: FIL_CROP: FIL_IMG: FIL_PATH: DOC_SPERRVERMERK: DOC_INPUT: 10-12-2003 09:45:38 DOC_UPDATE: 23-12-2003 12:25:25 DOC_STATUS: 1 DOC_KATALOG: 1 DOC_SPERR: 1 BESCHREIBUNG: IBM verfolgt einen neuen Ansatz in der Nanotechnologie, um konventionelle Halbleiter-Herstellprozesse zu ergänzen. Dabei haben IBM Forscher ein molekulares Selbstanordnungsverfahren (molecular self assembly) verwendet, das kompatibel ist mit existierenden Chip-Herstellungsprozessen. Dies ist besonders attraktiv für künftige Mikroelektronik-Technologien, da hohe Kosten der Werkzeugerstellung und -änderung vermieden werden, ebenso die Risiken, die bei größeren Änderungen von Herstellprozessen auftreten. Das molekulare Selbstanordnungsverfahren nützt die Tendenz bestimmter Typen von Polymer-Molekülen, sich selbst zu organisieren. Die Polymer-Moleküle verhalten sich dabei so, dass sie auf dem Chip Funktionen wesentlicher Bauelemente übernehmen und dabei kleiner, dichter, praeziser und gleichfoermiger sind als solche, die mit herkoemmlichen Verfahren wie der Lithografie hergestellt worden sind. Erläuterung zu dem Bild: IBM used self assembly to build a nanocrystal FLASH memory device (a) Step 1: Polymer molecules are made to self assemble into perfect hexagonal arrangements. The sizes of the arrangement are set by the size of the polymer molecules. The dark circular areas are 20 nanometers in diameter and are spaced 40 nanometers apart. (b) Step 2: IBM used the polymer material as a stencil to reproduce the nanoscale pattern in silicon dioxide, which is more rugged than the polymer and able to withstand higher temperatures. At this stage the polymer material is completely removed. (c) Step 3: A combination of depositing silicon material and etching leaves silicon nanocrystals embedded within the 20 nanometer regions defined originally by the self assembled polymer. (d) Dimensions of the hexagonal pattern of the initial polymer (dotted curve) are maintained throughout, as shown by the histogram of the final silicon nanocrystal dimensions (solid curve). The grey curve represents the dimensions of the hexagonal pattern at an intermediate process step. BU: RUBRIK: Forschung Technologie Fertigung BILDART: Makroaufnahme STICHWORTE: Nanotechnologie, Polymer IBM_NUMMER: 82796 FARBE: sw FORMAT: Quer ORIGINAL: Digital BILDRECHTE: IBM BILDQUELLE: IBM Research EINGABE: Häßler EXPORTPATH: 27/images/50770928.jpg |
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