Bildergalerie: Description 50866712 in Directory 32

IBM  <>

DTXT_TITLE: IBM Supercomputer-Simulation von Hafnium-Dioxid für Siliziumtransistoren (2007)
DOC_TYPE: Image
ARCHIV: 1000
FIL_ID: 50866712
FIL_ORG: 86507.jpg
FIL_EXT: jpg
FIL_WIDTH: 1088
FIL_HEIGHT: 1089
FIL_RES: 72
FIL_SIZE: 1021196
FIL_COLOR: RGB
FIL_ROTATE:
FIL_CLIP:
FIL_CROP:
FIL_IMG:
FIL_PATH:
DOC_SPERRVERMERK:
DOC_INPUT: 23-01-2008 10:45:48
DOC_UPDATE: 24-01-2008 15:02:55
DOC_STATUS: 1
DOC_KATALOG: 1
DOC_SPERR: 1
BESCHREIBUNG: IBM Supercomputer-Simulationen unterstützen Durchbruch bei Chipentwicklung. Supercomputereinsatz zur Verbesserung von Computern - Simulationen zur neuen High-k-Metal-Gate-Technologie. IBM Forscher im IBM Labor in Zürich haben am 26. Februar 2007 einen wichtigen Fortschritt in computerbasierten Simulationen vorgestellt: Mit dieser Neuvorstellung können Chiptechnologien auf neue Leistungs- und Funktionalitätshöhen gebracht werden. Wie in einem Beitrag im wissenschaftlichen Magazin Physical Review Letters bekannt gegeben, hat ein Forscherteam im Zürcher IBM Forschungslabor erstmals fortschrittliche supercomputerbasierte Modelle eingesetzt, um das komplexe Verhalten eines neuen Materials - Hafnium-Dioxid - in Siliziumtransistoren, den fundamentalen Bausteinen von Computerchips, besser zu verstehen und zu beherrschen. Das neue Material ist ein Schlüssel zur jüngst vorgestellten "High-k-Metal-Gate-Technologie", der ersten größeren Veränderung am Transistor seit den Silizium-Halbleitern, mit vielversprechenden Möglichkeiten für gesteigerte Chipleistung zum Nutzen von Computern und anderen elektronischen Systemen. IBM plant, die Technologie ab dem Jahr 2008 zu verwenden und bei ihren Produkten einzusetzen. Bild: Das Bild zeigt die komplette Ansicht eines typisches Hafnium-Silizium-Modells. Das Modell enthält mehr als 600 Atome und 5.000 Elektronen. Die Bälle stellen die Atome dar (Silizium in Orange, Hafnium in Blau und Oxid in Rot), die Stäbe die chemischen Verbindungen.
BU:
RUBRIK: Forschung Technologie Fertigung
PRODUKTFAMILIE: Sonstiges
BILDART: Makroaufnahme
STICHWORTE: Halbleiter, Simulaton, Chip, Computerchip, Zürich, Forschungslabor
IBM_NUMMER: 86507
FARBE: farbig
FORMAT: Quadratisch
ORIGINAL: Digital
BILDRECHTE: IBM
BILDQUELLE: https://www.zurich.ibm.com/news/07/hpc.html
EINGABE: Dentz
EXPORTPATH: 32/images/50866712.jpg

      Zum Vergrößern auf das Bild klicken

      

Warnung:
Der angezeigte Link kann auf eine veraltete Webseite verweisen, die entweder nicht mehr existiert oder anders genutzt wird.